| 研究生: |
胡慶忠 Ching-Chung Hu |
|---|---|
| 論文名稱: |
氧化鋅鋁透明導電膜在氮化鎵上 The Study of AZO transparent and conductive ohmic contact to p-GaN |
| 指導教授: |
許進恭
J. K. Sheu 張正陽 J. Y. Chang |
| 口試委員: | |
| 學位類別: |
碩士 Master |
| 系所名稱: |
理學院 - 光電科學與工程學系 Department of Optics and Photonics |
| 畢業學年度: | 94 |
| 語文別: | 中文 |
| 論文頁數: | 86 |
| 中文關鍵詞: | 透明導電膜 、歐姆接觸 、氮化鎵 、鋁摻雜氧化鋅 、氧化鋅鋁 |
| 外文關鍵詞: | Ohmic contact, GaN, Al-doped ZnO, AZO |
| 相關次數: | 點閱:17 下載:0 |
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本論文之主題是n-型氮化鎵(n-GaN)與p-型氮化鎵(p-GaN)上之接觸電極研究。在n-GaN 的接觸電極方面, Cr/Au 接觸電極用高溫爐管(Furnace)在氮氣環境下經過400℃熱處理5 分鐘後可得到最低的特徵接觸電阻(specific contact resistivity )。對於作為n-型接觸電極有很大的發展潛力。在p-GaN 的接觸電極方面,以鋁摻雜氧化鋅(AZO)為透明電極材料,雖然AZO 薄膜有不錯的光穿透率,然而在p 型氮化鎵上之接觸特性,卻無法有線性之歐姆接觸特性,因此我們在AZO與p-型氮化鎵間加入一層鎳(Ni)或氧化鎳(NiOx)來降低透明導電膜與p-型氮化鎵之位障,改善了歐姆接觸特性。
在光穿透率上,p-GaN/Ni/AZO 在氮氣環境下經過800℃熱處理後,在可見光波段的穿透率可由70%提升至85%,這可能是因為Ni/AZO 經過熱處理後,介面的Ni 會形成透明的NiO,而使穿透率提升。而所有的NiOx/AZO 在可見光波段都有85%以上的穿透率。而在氮氣環境下經過 800℃熱處理後 Ni/AZO 及NiOx/AZO 的特徵接觸電阻都有不錯的結果.並且與Ni/Au 及ITO 的電阻值相近。而電性的改善可能與介面處NiO 及Ni-Ga合金的形成有關。經過本論文的研究,Ni/AZO 與NiOx/AZO 透明導電膜具有應用於紫外光發光二極體(UV-LED)上的潛力。
Ch.1
1. S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S.
Nagahama, Jpn. J. Appl.Phys.,Part 34, L797
(1995)
2. S. Nakamura, T. Mokia, and M. Senoh, Appl.
Phys. Lett. 64, 1689(1994).
3. S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N.
Iwasa, T. Yamada, T.Matsushita,Y. Sugimoto,
and H. Kiyodo, Appl. Phys. Lett. 70, 868
(1996).
4. M. A. Khan, M. S. Shur, J. N. Kuzunia, Q.
Chen, J. Burm, and W.Schaff,Appl. Phys. Lett.
66, 1083 (1995).
5. O. Aktas, Z. F. Fan, S. N. Mmohammad, A. E.
Botchkarev, and H. Morkoc¸, Appl. Phys. Lett.
69, 3872 (1996).
6. Z. Fan, S. N. Mohammad, W. Kim, O. Aktas, A.
E. Botchkarev,and H.Morkoc﹐, Appl. Phys.
Lett. 68, 1672 (1996)
7. S. J. Cai, R. Li, Y. L. Chen, L. Wong, W. G.
Wu, S. G. Thomas,and K. L.Wang, Electron.
Lett. 34,2354(1998)
Ch.2
1. F.Braun, “On the Conduction Through
Sulfurmetals”, (in German),Annal. Phys.
Chem. 153, 556-563, 1874
2. W. Schottky, “Semiconductor Theory of the
Blocking Layer” (in German),
Naturwissenschaften 26, 843, Dec. 1938; “On
the Semiconductor Theory of Blocking and
Point Contact Rectifiers”(in German), Z.
Phy. 113, 367-414, July 1939; “Simplified
and Expanded Theory of Boundary Layer
Rectifiers” (in German), Z. Phys. 118,
539-592, Feb. 1942
3. Dieter K. Schroder , “Semiconductor Material
and Device Characterization” , 2nd edition ,
p.133
4. Donald A, Neamen , “Semiconductor Physics
and Devices”, 3th Edition ,p.345 (半導體物理
與元件,譯者:李世鴻),美商麥格羅‧希爾國際股份
有限公司,p.395)
5. 施敏 ,半導體元件物理與製作技術,p.353
6. 施敏 ,半導體元件物理與製作技術,p.96
7. Dieter K. Schroder , “Semidonductor Material
and Device Characteruzation” , 2nd edition ,
p.143
8. G. K. Reeves and H. B. Harrison, IEEE
Electron Device Lett., 1982,EDL 3, p.111.
9. 唐邦泰,”透明導電膜與氮化鎵接觸特性研究”,中
央大學光電所,碩士論文(2001)
10. Watts, John F. , Wolstenholme, John. ,” An
introduction to surface analysis by XPS and
AES” , p.5
11. D.J. O''Connor, B.A. Sexton, R.St.C. Smart,
“Surface analysis methods in materials
science”, p.175
12. 莊豐憶、楊思明,X 光光電子/歐傑電子能譜儀簡
介,國立中央大學化學工程與材料工程研究所,p.9
Ch.3
1. M. E. Lin, Z. F. Ma, Y. F. Huang, Z. F. Fan,
L. H. Allen, and H.Morkoc, Appl. Phys. Lett.
64, 1003 (1994)
2. Z. F. Fan, S. N. Mmohammad, W. Kim, O. Aktas,
A. E. Botchkarev,and H. Morkoc¸, Appl.
Phys. Lett. 68, 1672 (1996)
3. J. D. Guo, C. I. Lin, M. S. Feng, F. M. Pan,
G. C. Chi, and C. T.Lee,Appl. Phys. Lett. 68,
235 (1996)
Ch.4
1. 李玉華,”透明導電膜及其應用”,科儀新知,12 卷第
一期,(79),94-102
2. J. L.. Vossen, “physics of thin films”,
vol.19,p.1-64, 1997
3. T. Margalith, O. Buchinsky, D. A. Cohen, A.
C.Abare, M. Hansen, S. P.DenBaars, and L. A.
Coldren, Appl. Phys. Lett. 74, 3930 (1999)
4. Y. C. Lin, S. J. Chang, Y. K. Su, T. Y. Tsai,
C. S. Chang, S. C. Shei, C.W. Kuo, and S. C.
Chen, Solid-State Electron. 47, 849 (2003)
5. Y. Igasaki and H.Kanma, Appl. Surf. Sci. 169,
508 (2001)
6. 謝振剛, “氧化鋅鋁透明導電膜光、電透性之研
究” ,中央大學光電所,碩士論文(2005)
7. J. K. Sheu, Y. k. Su, G. C. Chi, P. L. Koh ,
“High-transparency Ni/Au ohmic contact to p-
type GaN” , APPLIED PHYSICS LETTERS,
vol.74, p.2340-2342
8. Shyi-Ming Pan, Ru-Chin Tu, Yu-Mei Fan, Ruey-
Chyn Yeh, and Jung-Tsung Hsu, “Enhanced
Output Power of InGaN–GaN Light-Emitting
Diodes With High-Transparency Nickel-Oxide–
Indium-Tin-Oxide Ohmic Contacts”, IEEE
PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS,vol. 15, p.646-
648
9. June-O Song and Tae-Yeon Seong, “Highly
transparent Ag/SnO2 ohmic contact to p-type
GaN for ultraviolet light-emitting diodes”,
APPLIED PHYSICS LETTERS, vol.85, p.6374-6376
10. June-O Song and Dong-Seok Leem, “Low-
resistance and highly-reflective Zn–Ni
solid solutionÕAg ohmic contacts for
flip-chip light-emitting diodes”, APPLIED
PHYSICS LETTERS,vol.83, p.4990-4992
11. June O Song, Kyoung-Kook Kim, Seong-Ju Park,
and Tae-Yeon Seong, “Highly low resistance
and transparent Ni/ZnO ohmic contacts to p-
type GaN”, APPLIED PHYSICS LETTERS, vol.83
p.479
12. John F. Moulder, William F. Stickle, Peter
E. Sobol, Kenneth d.Bomben, “Handbook of X- ray Photoelectron Spectroscopy”(Physical
Electronics, Inc.1995)
13. Ray-Hua Horng, Dong-Sing Wuu and Yi-Chung
Lien, Wen-How Lan, “Low-resistance and high-
transparency NiÕindium tin oxide ohmic
contacts to p-type GaN”, APPLIED PHYSICS
LETTERS,vol.79,p.2925