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研究生: 呂建民
Jing-Ming Lu
論文名稱: 非各向同性薄膜光學常數之量測
指導教授: 李正中
Cheng-Chung Lee
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 理學院 - 光電科學與工程學系
Department of Optics and Photonics
畢業學年度: 88
語文別: 中文
論文頁數: 30
中文關鍵詞: 非各向同性
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  • 柱狀結構會使得膜層呈現非各向同性的現象,亦即膜層因光之入射角不同可解析成三種折射率。本文利用非各向同性薄膜其反射率與穿透率的特性,計算出反射率或穿透率和膜層光學常數的關係,這些光學常數包括主軸折射率、柱狀結構之傾斜角、膜層厚度。
    蒸鍍TiO2與ZrO2並利用所推導之關係式,由反射率求出主軸折射率、柱狀結構之傾斜角、膜層厚度。


    第一章 緒論1 1.1雙折射特性對光學成效的影響1 1.2雙折射特性的應用3 第二章 基本理論5 2.1非各向同性介質5 2.2非各向同性薄膜9 2.2.1柱狀結構座標9 2.2.2非各向同性薄膜之反射率13 2.2.3柱狀結構垂直基板之特殊情形15 2.3包絡法17 第三章 實驗儀器與架構20 3.1蒸鍍系統20 3.1.1真空系統20 3.1.2薄膜材料蒸發系統21 3.1.3監控系統21 3.2蒸鍍架構22 3.3量測儀器23 3.3.1可見光及近紅外光光譜儀23 第四章 實驗結果與討論24 4.1柱狀結構垂直基板24 4.1.1蒸鍍參數與量測結果24 4.2柱狀結構不垂直基板26 4.3誤差分析31 第五章 結論32 參考文獻33 圖目錄 圖1-1 雙折射特性之光學成效比較圖2 圖1-2 雙折射特性之濾光片光譜圖2 圖1-2 偏振分光片之光譜圖4 圖2-1 (A)7 圖2-1 (B)7 圖2-1 (C)8 圖2-2 柱狀座標示意圖9 圖2-3 波向量行進示意圖12 圖2-4 弱吸收薄膜鍍在透明基板之示意圖17 圖2-5 單層弱吸收膜之光譜圖18 圖3-1蒸鍍系統架構圖20 圖3-2 蒸鍍架構圖22 圖4-1沈積角度與折射率之關係圖29 圖4-2蒸鍍角度與柱狀成長角度之關係圖30 表目錄 表4-1 二氧化鈦之蒸鍍參數24 表4-2 四次量測之結果24 表4-3 四次量測結果之平均25 表4-4 二氧化鈦之蒸鍍參數26 表4-5 二氧化鈦之量測結果27 表4-6 二氧化鋯之蒸鍍參數27 表4-7 二氧化鋯之量測結果28

    1. 李正中,薄膜光學與鍍膜技術,1999,藝軒圖書出版社.
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