| 研究生: |
黃式明 Xie-Ming Huang |
|---|---|
| 論文名稱: |
氫氣對二氧化碳雷射誘發化學氣相沈積法成長碳質膜之影響 |
| 指導教授: |
劉海北
Hai-Pei Liu |
| 口試委員: | |
| 學位類別: |
碩士 Master |
| 系所名稱: |
理學院 - 光電科學與工程學系 Department of Optics and Photonics |
| 畢業學年度: | 88 |
| 語文別: | 中文 |
| 論文頁數: | 62 |
| 中文關鍵詞: | 雷射誘發化學氣相沉積法 、鑽石薄膜 |
| 外文關鍵詞: | LCVD, Diamond films |
| 相關次數: | 點閱:16 下載:0 |
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本文是探討氫氣對成長類鑽碳膜的影響,研究中薄膜是利用雷射誘發化學氣相沉積法,以氫氣、乙烯和氬氣為反應氣體,沉積在Si(100)、P型晶片上,藉以找出最重要的沉積參數。薄膜的組成與結構是由SEM、Dektak、FTIR與Raman光譜技術來檢測之。實驗結果顯示氫含量的增加有助於薄膜形成sp3鍵結,而且抑制石墨的產生。另外,我們也在薄膜中發現了天然鑽石才有的 1332cm-1峰值。
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