跳到主要內容

簡易檢索 / 詳目顯示

回結果列表
研究生： 戴國良
Guo-Liang Dia
論文名稱： 離子輔助反應射頻磁控濺鍍紫外光薄膜之研究
The study of UV thin film prepared reactive by RF magnetic controlled sputtering with IAD
指導教授： 李正中
Cheng-Chung Lee
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 光電科學與工程學系
Department of Optics and Photonics
畢業學年度： 89
語文別： 中文
論文頁數： 54
中文關鍵詞： 光學鍍膜 、氧化鋁 、氧化矽 、抗反射膜
外文關鍵詞： optical coating, Al2O3, SiO2, AR-Coating
相關次數： 點閱：8  下載：0 
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報



    • 中文摘要………………………………………………………….……..Ⅰ 英文摘要………………………………………………………….……..Ⅱ 誌謝辭…………………………………………………………………...Ⅲ 目錄……………………………………………………………….……..Ⅴ 圖目錄…………………………………………………………….……..Ⅶ 表目錄…………………………………………………………….…….XI 第一章緒論……………………………………………………………...1 1.1前言………………………………………………………….1 第二章基本原理………………………………………………………...3 2.1電漿………………………………………………………….3 2.2濺鍍原理…………………………………………………….4 2.2.1直流濺鍍……………………………………….……..4 2.2.2射頻濺鍍……………………………………….……..4 2.2.3磁控濺鍍……………………………………….……..7 2.2.4反應濺鍍……………………………………….……..9 2.3離子源之原理……………………………………………...10 2.4 Al2O3和SiO2之材料特性………………………………….12 第三章系統架構及量測儀器………………………………………….13 3.1 系統架構…………………………………………….…….13 3.1.1真空系統…………………………………………….13 3.1.2 磁控濺鍍系統……………………………………...13 3.1.3 離子輔助系統……………………………………...14 3.1.4 監控系統…………………………………….……..14 3.2 量測儀器…………………………………………….…….16 3.2.1 紫外光/可見光、近紅外分光光譜儀……….……...16 3.2.2 橢圓偏光儀………………………………………...17 3.2.2.1橢圓偏光儀之原理及工作示意圖………...17 3.2.3 原子力顯微鏡……………………………………...19 3.2.4 X光繞射儀………………………………………21 3.2.5 能量分散光譜儀(EDS)…………………………….22 3.2.5.1 EDS之原理及示意圖……………………23 第四章實驗結果與討論……………………………………………….24 4.1 Al2O3單層薄膜之實驗結果與分析……………………….24 4.1.1 實驗參數……………………….…………………..24 4.1.2 濺鍍速率之分析…………………………...………24 4.1.3 折射率及消光係數之分析……………………...…27 4.1.4 化學成份之分析…………………………………...29 4.1.5 結晶性與表面粗糙度之分析……………………...31 4.1.6 穿透光譜之分析…………………………………...35 4.2 SiO2單層薄膜之實驗結果與分析………………………...37 4.2.1 實驗參數…………………………………………...37 4.2.2 濺鍍速率之分析………………………………...…37 4.2.3 折射率及消光係數之分析………………………...39 4.2.4 化學成份之分析…………………………………...43 4.2.5 結晶性與表面粗糙度之分析……………………...45 4.2.6 穿透光譜之分析…………………………………...49 4.3 抗反射膜之設計與製作………………………………….52 4.3.1 單介面雙層及四層之1/4波厚抗反射膜………….52 4.3.2 雙面各四層之1/4波厚抗反射膜………………….53 第五章結論…………………………………………………………….54 參考文獻………………………………………………………….……..55

    1.Michael L.Fulton,“Application of ion —assisted-deposition using a gridless end-Hall ion source for volume manufacturing of thin-film optical filter,” SPIE Vol. 2253 , 374.
    2.John R.McNeil, Alan C.Barron, S. R. Wilson,and W. C. Herrmann,Jr.,“Ion-assisted deposition of optical thin film: low energy vs high energy bombaedment,” Appl. Opt., Vol. 23, 4 , 552(1984).
    3.H. KÜSTER and J. EBERT,“Activated Reactive Evaporation of TiO2 Layers and Their Absorption Indices,” Thin Solid Film , 70 , 43-47(1980).
    4.J.J. McNally,G. A. Al-Jumaily,and J. R.. McNeil,“Ion-assisted deposition of Ta2O5 and Al2O3 thin film,” J. Vac. Sci. Technol. A 4(3) , 437(1986).
    5.G. A. Al-Jumaily,J. J. McNally,and J. R. McNeil,“Effect of ion assisted deposition on optical scatter and surface microstructure of thin films,” J. Vac. Sci. Technol. A3(3) , 651(1985).
    6.F. Flory,Emile Pelletier, G. albrand,and Y. Hu,“Surface optical coatings by ion assisted deposition techniques: study of uniformity,” Appl. Opt. , Vol. 28 , 14 , 2952(1989).
    7.John R.McNeil,G. A. Al-Jumaily,K. C. Jungling,and A.C. Barron,“Properties of TiO2 and SiO2 thin film deposited using ion assisted deposition,” Appl. Opt. , Vol. 24 , 4 , 486(1985).
    8.P. J. Martin,H. A. Macleod,R. P. Netterfield,C. G. Pacey,and W. G. Sainty,“Ion-beam-assisted deposition of thin films,” Appl. Opt. Vol.22 , 1 , 178(1983).
    9.H. KÜSTER AND J. EBERT,“Activated Reactive Evaporation of TiO2 Layers and Their Absorption Indices,” Thin Solid Film 70 , 43-47(1980).
    10.Samad M. Edlou,Ali Smajkiewicz,and Ghanim A.Al-Jumaily,“Optical properties and environmental stability of oxide coatings by reactive sputtering,” Appl. Opt. Vol. 32 , 28 , 5601(1993).
    11.R.Y. Tsai,C. W.Chu,T. S. Chen, C. S. Chan and Jung-Chung Hung ,“Effects of Oxygen in Reactive Ion-assisted Bipolar DC Magnetron Sputtering of Ta2O5 and SiO2 Films,” Industrial Technology Research Institudte , Opto-Electronic and Systems Laboratories.
    12.紅色精靈研究團隊,”中華二號衛星的科學酬載-高空大氣閃電影像儀的介紹,”物理雙月刊第二十一卷五期,1999.10,p.529-540.
    13.E. Welsch ,K. Ettrich ,H. Blaschke ,N. Kaiser ,“Excimer Laser Interaction with Dielectric Thin Film,” Appl. Surface Sci. 96-98 , 393-398(1996).
    14.N. Kaiser ,H. Uhlig, U.B. Schallenberg, B. Anton, U.Kaiser, K. Mann, E. Eva,“High Damage Threshold Al2O3/SiO2 Dielectric Coatings for Excimer Lasers,” Thin Solid Film 260 , 86-92(1995).
    15.曾忠一,”大氣衛星遙測學”,渤海堂,p.115-117,p.367-368.
    16.K. Wasa,S. Hayakawa, in: Hand Book of Sputter Deposition Technology,chap3-4, Noyes Publications(1992).
    17.Donald L.Smith,McGraw Hill ,in : thin-film deposition:principles and practice, chap4 , 8-9 ,(1995).
    18.Stephen M. Rossnagel,Jerome J. Cuomo and William D. Westwood,in : Handbook of Plasma Processing Technology, 1989.
    19.R.J.Hill,in : Physical vapor deposition,2nd ed(1985)
    20.Rointan F. Bunshan,in : Handbook of Deposition Technologies for Film and Coatings, 2nd ed , 1993.
    21.B. Chapman,in : Glow Discharge Processes, 1st ed(1979).
    22.Harold R. Kaufman,Rarmond S.Robinsion,Operation of Broad-Beam Source, 1987.
    23.M. Gilo,N. Croitoru,“Properties of TiO2 film prepared by ion-assisted deposition using a ggridless end —Hall ion source,” Thin Solid film , 283 , 84—89(1996).
    24.M. Gilo,N. Croitoru,“Study of HfO2 film prepared by ion-assisted deposition using a ggridless end —Hall ion source,” Thin Solid film , 350 , 203—208(1999).
    25.朱正煒，“光學薄膜之光學常數測量方法之研究”，國立中央大學光電所博士論文，994。
    26.李金宏，“橢圓偏光儀簡介”，量測資訓，66期，1999。
    27.劉旻忠，“射頻濺鍍紫外氧化薄膜之研究”，國立中央大學光電所碩士論文，2000。
    28.汪健民，材料分析(Materials Analysis)，中國材料科學學會(1998)。
    29.A.Turos,W.F.van der Weg,D. Sigurd,andJ.W.Mayer, J. Appl. Phys. 45 , 2777(1974).
    30.A.Turos, W. F. van der Weg ,D. Sigurd,and J. W.Mayer,“Chande of surface composition of SiO2 layers during sputtering ,” J. appl. Phys. 45 , 2777(1974).
    31.MIKO MARINOV ,“Effect of Ion Bombardment on the Initial Stages of Thin Film Growth,” Thin Solid Film , 46 , 267-274(1977).

    QR CODE
    :::