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| 研究生： |
黃焜琳 Kun-Lin Huang |
|---|---|
| 論文名稱： | Effects of Diluted Ar in H2/SiH4 on Amorphous Hydrogenated Silicon Thin Film (i-layer) by an Inductive Coupled Plasma-Chemical Vapor Deposition (ICP-CVD) System |
| 指導教授： |
李泉
Chuan Li |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
工學院 - 機械工程學系 Department of Mechanical Engineering |
| 論文出版年： | 2013 |
| 畢業學年度： | 101 |
| 語文別： | 英文 |
| 論文頁數： | 73 |
| 相關次數： | 點閱：14 下載：0 |
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