目　　　錄 摘要 …………………………………………………………………… I 目錄 ……………………………………………………………………II 圖表目 …………………………………………………………………IV 第一章 前　言……………………………………………………… 1 第二章 二氧化碳雷射輔助沉膜的基本理論……………………… 4 2-1 二氧化碳雷射基本原理………………………………… 4 2-2 二氧化碳雷射器件……………………………………… 6 2-3 二氧化碳雷射輔助成膜的理論………………………… 9 第三章 化學氣相沉積法的基本原理………………………………15 3-1 化學氣相沉積的原理……………………………… …15 3-2 薄膜沉積原理………………………………………… 17 3-3 電漿形成的基本原理………………………………… 19 3-4 電漿激發式化學氣相沉積…………………………… 20 第四章 實驗步驟與量測方式………………………………………26 4-1 實驗裝置……………………………………………… 26 4-2 實驗步驟……………………………………………… 28 4-3 薄膜量測……………………………………………… 29 第五章 實驗結果與討論……………………………………………34 5-1　不同波長二氧化碳雷射對薄膜鍵結的關係…………34 5-2　不同波長二氧化碳雷射對薄膜粗糙度的關係………36 5-3　不同波長二氧化碳雷射對薄膜折射率、厚度與蝕刻率 的關係…………………………………………………38 5-4　不同波長二氧化碳雷射對薄膜的電性分析…………40 5-5　二氧化碳雷射是否有加熱基板………………………42 第六章 結論…………………………………………………………55 參考文獻 ………………………………………………………………56 圖　表　目 表1-1　　不同CVD沉積不同材料的溫度比較……………………… 3 表3-1　　熱電漿與冷電漿之比較 ………………………………… 25 圖2-1　(a)三能級系統與(b)四能級系統的雷射示意圖沉積薄膜的五個步驟 ………………………………………………………………10 圖2-2 光學共振腔………………………………………………… 10 圖2-3　 二氧化碳分子結構圖……………………………………… 11 圖2-4　二氧化碳分子的振動模式（a）對稱伸張模式，（b）彎曲模式，（c）反對稱伸張模式…………………………………11 圖2-5　二氧化碳雷射能級躍遷示意圖………………………………12 圖2-6　二氧化碳雷射001和100之間的振－轉躍遷………………13 圖2-7　矽烷對於二氧化碳雷射譜線的吸收光譜……………………14 圖3-1 晶片表面氣流圖……………………………………………… 22 圖3-2　顯示沉積薄膜的五個步驟（a）成核（b）晶粒成長（c）晶粒聚結（d）縫隙填補（e）薄膜成長……………………23 圖3-3　電漿激發式化學氣相沉積之反應機制………………………24 圖4-1　實驗裝置 …………………………………………………… 30 圖4-2　反應室…………………………………………………………31 圖4-3　二氧化碳雷射放電管示意圖 ………………………………32 圖4-4　蝕刻率量測示意圖………………………………………… 33 圖 5-1 傅氏轉換紅外線光譜圖………………………………………43 圖5-2 純電漿的（AFM）三D圖……………………………………44 圖 5-3 為9.28μm，50W二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積薄膜的（AFM）三D圖……………………………………………45 圖 5-4 為9.60μm，50W二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積薄膜的（AFM）三D圖……………………………………………46 圖 5-5 為10.26μm，50W二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積薄膜的（AFM）三D圖……………………………………………47 圖 5-6 為10.60μm，50W二氧化碳雷射輔助電漿激發式化學氣相沉積薄膜的（AFM）三D圖……………………………………………48 圖5-7 表面平整度比較圖……………………………………………49 圖5-8 薄膜折射率比較圖……………………………………………50 圖5-9 薄膜厚度比較圖………………………………………………51 圖5-10　圓形電極圖形，灰色部份為金屬電極，白色部份為二氧化矽薄膜表面……………………………………………………………52 圖 5-11不同波長二氧化碳雷射生成薄膜的V-I圖……………… 52 圖 5-12 波長10.26μm與10.60μm二氧化碳雷射生成薄膜的V-I圖……………………………………………………………………… 53 圖 5-13 不同功率二氧化碳雷射生成薄膜的V-I圖…………………53 圖 5-14 200℃的LAPECVD及PECVD與室溫LAPECVD生成薄膜的V-I圖…………………………………………………………………54 圖 5-15 不同波長二氧化碳雷射生成薄膜的電容圖……………… 54