跳到主要內容

簡易檢索 / 詳目顯示

回結果列表
研究生： 張峻領
Chun-Ling Chang
論文名稱： 氟化物混合薄膜於紫外光區之研究
The Research of Mixed Magnesium Fluoride - Aluminum Fluoride Film in Ultraviolet Region
指導教授： 李正中
Cheng-Chung Lee
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 光電科學與工程學系
Department of Optics and Photonics
畢業學年度： 94
語文別： 中文
論文頁數： 52
中文關鍵詞： 氟化鎂 、氟化鋁 、混合 、薄膜 、橢圓偏振儀 、紫外光 、微觀結構 、柱狀結構 、各向異性 、雙折射
外文關鍵詞： birefringence, magnesium fluoride, anisotropic, aluminum fluoride, column structure, microstructure, ultraviolet, ellipsometer, thin films, mixed
相關次數： 點閱：10  下載：0 
分享至:
查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報

    • 氟化鎂與氟化鋁為紫外光區之光學薄膜設計與應用上常見兩種低折射率材料，在單一材料情況下，以熱蒸鍍的氟化鎂薄膜會產生微觀的柱狀結構，此結構會使得薄膜具有各向異性的性質，而氟化鋁薄膜則無結構產生，但則具有易與水反應的性質。本實驗嘗試以混合製鍍的方式，以不同混合比例製程，找出膜質特性最佳的氟化物混合薄膜，實驗中主要以橢圓偏振術的量測觀點，研究在不同混合比例下對微觀結構的影響，並探討在不同混合比例下因柱狀結構引起的雙折射性質。

    Magnesium Fluoride and Aluminum Fluoride are both very popular low refraction index materials for optical thin films design in ultraviolet region. They are not very stable using for a long time, due to the microstructure and chemical properties. We tried to mix these two materials, Magnesium Fluoride and Aluminum Fluoride, and find the best deposition ratio of the mixed coatings to have better optical characteristic and chemical properties. This study is based on the measurement of ellipsometry method. Discuss the microstructure and birefringence of the mixed coatings with the composite ratio of two fluoride materials.

    第一章 序論 1 1-1 前言 1 1-2 研究動機 2 第二章 原理與材料特性 3 2-1 各向異性介質(Optical Anisotropic Medium) 3 2-2 柱狀結構形成的各向異性薄膜 5 2-2-1 SZM(Structural Zone Model)模型 5 2-2-2 垂直的柱狀結構薄膜 6 2-3 能帶間隙理論 7 2-4 原子間的鍵結 10 2-5 氟化物材料特性 12 2-5-1 氟化鎂(Magnesium Fluoride, MgF2) 13 2-5-2 氟化鋁 (Aluminum Fluoride, AlF3) 14 第三章 研究方法 15 3-1 蒸鍍系統 15 3-1-1 熱電阻加熱蒸鍍系統(RHE) 15 3-1-2 電子槍蒸鍍系統(EGE) 16 3-1-3 實驗參數 19 3-2 量測方法與儀器 20 3-2-1 光譜式橢圓偏振儀(Spectroscopy Ellipsometer) 20 第四章 結果與討論 25 4-1氟化鎂與氟化鋁混合薄膜在不同比例下的特性 25 4-1-1 各向同性與各向異性橢圓參數模擬 25 4-1-2 不同混合比例下之光學特性擬合結果 30 4-1-3 表面粗糙度分析 35 4-2 氟化鎂與氟化鋁混合薄膜經過高溫退火後的特性討論 36 4-2-1 退火後不同混合比例下之光學特性擬合結果 36 4-2-2 退火後表面粗糙度分析 39 第五章 結論 40 參考文獻 41

    〔1〕Amnon Yariv and Pochi Yeh ,1984,“Optical Waves in Crystals” ,Wiley & Sons Inc.p69-p84.
    〔2〕R. Messier, A. P. Giri and R. A. Roy, “Revised structure zone model for thin physical structure”, J. Vac. Sci. Technol. A2, 500-503(1984).
    〔3〕U. Kaiser, N. Kaiser, P. Weibrodt, U. Mademann, E. Hacker and H. Muller, “Structure of thin fluoride films deposited on amorphous substrates”, Thin Solid Films 217, 7-10 (1992).
    〔4〕U. Kaiser, M. Adamik, G. Safran, P. B. Barna, S. Laux and W. Richter, “Growth structure investigation of MgF2 and NdF3films grown by molecular beam Deposition on CaF2(111) Substrates”, Thin Solid Films 280, 5-15 (1996).
    〔5〕Horowitz, Flavio, “Structure-Induced Optical Anisotropy in Thin Films” PH. D Theasis, The University of Arizona (1983).
    〔6〕H. K. Pulker, “Characterization of Optical Thin Films”, Appl. Opt. 18, 1969 (1979).
    〔7〕F. Abelès, Optical Properties of Solids, Frederick Wooten, New York (1972).
    〔8〕M. W. Williams, R. A. MacRae and E. T. Arakawa, ”Optical Properties of Magnesium Fluoride in the Vacuum Ultraviolet”, J. Appl. Phys. 38, 1701 (1967).
    〔9〕Y. Toyozawa, “Interband Effect of Lattice Vibrations in The ExcitonAbsorption Spectra”, J. Phys. Chem. Solids Vol.25, 59 (1964).
    〔10〕Charles. Kittel, Introduction to Solid State Physics, 7th ed. Wiley, New York (1996).
    〔11〕William D. Callister, JR., Materials Science and Engineering an Introduction, 4th ed. Wiley, New York (1994).
    〔12〕Lawrence H. Van Vlack, Elements of Materials Science and Engineering, 6th ed. Readings, Mass (1989).
    〔13〕David A Glocker, Handbook of Thin Film Process Technology, Bristol, UK (1995).
    〔14〕李正中，薄膜光學與鍍膜技術，第四版，藝軒出版社，第十章，第十一章 (2004)。
    〔15〕R. M. A. Azzam, N. M. Bashara, ELLIPSOMETRY AND POLARIZED LIGHT, p340-363, North-Holland, New York

    QR CODE
    :::