| 研究生: |
敦俊儒 Jun-Ru Dun |
|---|---|
| 論文名稱: |
離子佈植摻雜氮化鎵薄膜的光、電、結構特性之分析 Optical, Electrical, and Structure Analysis of Ion-implanted GaN |
| 指導教授: |
紀國鐘
Gou-Chung Chi |
| 口試委員: | |
| 學位類別: |
碩士 Master |
| 系所名稱: |
理學院 - 物理學系 Department of Physics |
| 畢業學年度: | 89 |
| 語文別: | 中文 |
| 論文頁數: | 66 |
| 相關次數: | 點閱:8 下載:0 |
| 分享至: |
| 查詢本校圖書館目錄 查詢臺灣博碩士論文知識加值系統 勘誤回報 |
II
electrical properties transformed from p-type to n-type when the sample are annealed at the temperature higher than 850 oC and transformed to n+-type (n=-1X1019~-4X1019cm-3) when the temperature higher than 950 oC. When the annealing temperature is higher than 950 oC, the implanted samples have a factor of 100 times more free electrons than the samples annealed at the temperature lower than 850 oC.
[1] S. Nakamura, M. Senoh, S. Nagahama, N. Iwasa, T. Yamada, T. Matsu- shita, H. Kiyoku, and Y. Sugimoto, Jpn. J. Appl. Phys., 35, L74 (1996). [2] S. Nakamura, T.Mukai. and M. Senoh, Appl. Phys. Lett. 76, 8189 (1994). [3] S. Nakamura, MRS Bull. 22, 29 (1997). [4] M. S. Shur and M. A. Khan, MRS Bull. 22, 44 (1997). [5] H. P. Maruska and J. J. Tietjen, Appl. Phys. Lett. 15,329 (1969). [6] C. J. Pan and G. C. Chi, Solid State Electronics 43, 621 (1999). [7] J. C. Zolper, S. J. Pearton, J. S. Williams, H. H. Tan, R. J. Karlicek, R. A. Stall, Mater. Res. Soc. Proc. Vol. 449, 981 (1997). [8] J. I. Pankove and J. A. Hutchby, J. Appl. Phys. 47, 5387 (1976). [9] M. Rubin, N. Newman, J. S. Chan, T. C. Fu, and J. T. Ross, Appl. Phys. Lett. 64, 64 (1994). [10] S. J. Pearton, C. B. Vartali and J. C. Zolper et. al., 67, 1435 (1995). [11] J. C. Zolper, H. H. Tan, J. S. Williams, J. Zou, D. J. H. Cockayne, S. J. Pearton, M. Hagerott Crawford, R. F. Karlicek, and Jr. Appl. Phys. Lett. 70, 2729 (1997). [12] S. J. Pearton, F. Ren, J. C. Zolper, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 482, 961 (1998).
63
[13] J. R. Mileham, S. J. Pearton, et. al Appl. Phys. Lett. 67, 1119 (1995). [14] C. B. Vartuli, S. J. Pearton, J. W. Lee, C. R. Abernathy, et. al Electronchem. Soc. 143, 3681 (1996). [15] T. Suski, J. Jun, M. Leszczynski, and H. Teisseyre, J. Appl. Phys. 84, 1155 (1998). [16] C. C. Yang, G. C. Chi, C. K. Huang, and M. C. Wu, J. Crystal Growth 32, 200 (1999). [17] J. C. Zolper, D. J. Rieger, A. G. Baca, S.J. Pearton, J. W. Lee and R. A. Stall, J. Appl. Phys. 69, 538 (1996). [18] S. M. Sze, “Semiconductor Devices Physics and Technology”, Ch. 10, Fig 19. [19] J. K. Sheu, Y. K. Su, G. C. Chi, et al, J. Appl. Phys. 83, 5992 (1998). [20] E. F. Schubert, I. D. Goepfert, and J. M. Redwing Appl. Phys. Lett. 71, 3224 (1997). [21] C. Liu, B. Mensching, K. Volz, and B. Rauschenbach Appl. Phys. Lett. 71, 2313 (1997). [22] J. M. Hayes, M. Kuball, A. Bell, I. Harrison, D. Korakakis, and C. T. Foxon Appl. Phys. Lett. 75, 2097(1999). [23] G. K. Williamson, and W.H. Hall, Acta. Metallurgica, 1, 22 (1953). [24] L.W. Tu, Y.C. Lee, S.J. Chen, I. Lo, D. Stocker, and E.F. Schu-bert, Appl. Phys. Lett. 73, 2802 (1998).
64
[25] H. Siegle, P. Thurian, L. Eckey, A. Hoffmann, C. Thomsen, B.K. Meyer, H. Amano, I. Akasaki, T. Detchprohm, and K. Hira-matsu, Appl. Phys. Lett. 68, 1265 (1996). [26] P. Perlin, T. Suski, H. Teisseyre, M. Leszczynski, I. Grzegory, J. Jun, S. Porowski, P. Boguslawski, J. Bernholc, J.C. Chervin, A. Polian, and T.D. Moustakas, Phys. Rev. Lett. 75, 296 (1995). [27] C. Wetzel, T. Suski, J.W. Ager III, E.R. Weber, E.E. Haller, S. Fischer, B.K. Meyer, and P. Perlin, Phys. Rev. Lett. 78, 3923 (1997). [28] C.G. Van de Walle and J. Neugebauer, Mater. Sci. Forum 19, 258 (1997). [29] J. Neugebauer and C.G. Van de Walle, Appl. Phys. Lett. 69, 503 (1996). [30] G. R. Lin, W. C. Chen, C. S. Chang, S. C. Chao, K. H. Wu, T. M. Hsu, E. C. Lee, and C. L. Pan, IEEE J. Quan. Electr. 34, 1 (1998). [31] M. A. Reshchikov, F. Shahedipoyr, R. Y. Korotlov, B. W. Wessels, and M. P. Ulmer J. Appl. Phys. 87 3351 (2000). [32] B. J. Pong, C. J. Pan, Y. C. Teng, G. C. Chi, W. H. Li, K. C. Lee, and Chih-Hao Lee J. Appl. Phys. 83 5992 (1998). [33] M. Kunzer, J. Baur, U. Kaufmann, J. Schneider, et al., Solid state Electronics Vol. 41 189 (1997). [34] T. Suski, P. Berlin, H. Teisseyre, M.Leszcynsky, I. Grzegory, J. Jun, M. Bockowski, S. Poroski, and T. D. Moustakas, Appl. Phys. Lett. 67,
65
2188 (1995). [35] L. W. Tu, Y. C. Lee, S. J. Chen, I. Lo, D. Stoker, and E. F. Schubert Appl. Phys. Lett. 73, 2802 (1998). [36] Y. Koide, T. Maeda, T. Kawakami, S. Fujita, T. Uemura, N. Shibata, and M. Murakami, J. Electron. Mater. 28, 341 (1999). [37] H. H. Tan, J. S. Williams, J. Zou, D. I. H. Cockayne, S. J. Pearton, and R. A. Stall Appl. Phys. Lett. 69,16 (1996). [38] C. Liu, B. Mensching, M. Zeitler, K. Volz, and B. Rauschenbach, Physical Review B 57, 2530 (1998). [39] J. S. Williams, H. H. Tan, and J. C. Zolper, IEEE 390 (1997).