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| 研究生： |
陳韋綸 Wei-Lun Chen |
|---|---|
| 論文名稱： |
多步沉積技術進行脈衝直流濺射的微觀結構分析與光學發射光譜主成分分析分類氮化鋁（AlN）薄膜特性 Multi-step deposition technique of DC pulsed sputtering with microstructural analysis and classification of aluminum nitride (AlN) film characteristics with principal component analysis of optical emission spectroscopy |
| 指導教授： |
利定東
Ting-Tung Li |
| 口試委員: | |
| 學位類別： |
碩士 Master |
| 系所名稱： |
工學院 - 光機電工程研究所 Graduate Institute of Opto-mechatronics Engineering |
| 論文出版年： | 2022 |
| 畢業學年度： | 110 |
| 語文別： | 中文 |
| 論文頁數： | 87 |
| 相關次數： | 點閱：20 下載：0 |
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全文公開日期 2027/09/16全文公開日期 2027/09/16 (校外網路)