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研究生: 鄭雄
Hsiung Cheng
論文名稱: 堆疊式矽鍺奈米片場效電晶體用於3奈米之先進製程技術
Utilizing Stacked SiGe Nanosheets FET in Advanced 3 Nanometer Process Technology
指導教授: 李雄
Shyong Lee
口試委員:
學位類別: 碩士
Master
系所名稱: 工學院 - 機械工程學系
Department of Mechanical Engineering
論文出版年: 2024
畢業學年度: 112
語文別: 中文
論文頁數: 97
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  • 無法下載圖示 全文公開日期 2029/06/03
    全文公開日期 2029/06/03 (校外網路)
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