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研究生： 鄭耀乾
Yao-chien Cheng
論文名稱： 次奈米窄帶濾光片之研製與分析
Research of the fabrication of sub-nanometer narrow band pass filter for DWDM system
指導教授： 李正中
Cheng-Chung Lee
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 理學院 - 光電科學與工程學系
Department of Optics and Photonics
畢業學年度： 89
語文別： 中文
論文頁數： 44
中文關鍵詞： 次奈米 、窄帶濾光片 、光纖通訊 、高密度分波多工器 、雙離子束濺鍍
外文關鍵詞： subnanometer, narrow band pass filter
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    • 本論文使用Ta2O5 及SiO2 兩種材料，實際由製程選取、建立雙離子束濺鍍系統、尋找適當製程參數到設計與製鍍，逐步完成了次奈米窄帶濾光片之製作與分析。

    第一章 緒論 …………………………………………………..…..…1 第二章 理論分析 ………………………………………….…..…….4 2.1 Fabry-Perot型窄帶濾光片 .……………………….……….4 2.2 多腔型窄帶濾光片 ………………………………………….6 2.3 基本規格 ……………………………………….……………8 2.4 製程分析 ………………………………………….…...…….11 2.4.1 製鍍系統分析 …………………………….………….12 2.4.2 雙離子束濺鍍 ………….……………….……………13 第三章 儀器及量測工具 ……………………………………………14 3.1 離子源 ……………………………………………………….14 3.2 濺鍍系統 …………………………………………………….16 3.3 量測儀器 ………….……………………………………...….16 3.3.1 可見光及近紅外光光譜儀 ………………………..…16 3.3.2 OSA系統 ……………………………………………..18 3.3.3 相移式應力量測系統 …………………………..……19 第四章 實驗結果與分析討論 ………………………………………20 4.1 監控系統之改良 ..……………………………………..…….20 4.1.1 監控系統 ………….…………………………...……..20 4.1.2 改良及成果 ………………………….…….…...…….23 4.2 各種不同製程參數下之應力比較 ………..….…….……….25 4.2.1 有無離子助鍍之應力比較 …………………………..27 4.2.2 有無加熱之應力比較 ………………………………..28 4.2.3 主槍使用不同Beam Voltage之應力比較 …………29 4.2.4 IAD使用不同Beam Voltage之應力比較 …….…….30 4.3 次奈米窄帶濾光片之製鍍結果 …………………………….31 4.3.1 波寬為1nm之窄帶濾光片 …………………………..33 4.3.2 波寬為0.5nm之窄帶濾光片 …………………….….38 第五章 結論 …………………………………………………………41 參考文獻 ……………………………………………………………..43

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