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研究生： 李永成
Yu-Chen Lee
論文名稱： 平板受聲源作用之振動與輻射聲場分析
指導教授： 黃以玫
Yii-Mei Huang
口試委員:
學位類別： 碩士
Master
系所名稱： 工學院 - 機械工程學系
Department of Mechanical Engineering
畢業學年度： 88
語文別： 中文
論文頁數： 95
中文關鍵詞： 平板 、點聲源 、觀察點 、波動方程式 、雷立積分式 、近場 、遠場
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    • 對平板所造成之振動響應。
    文中由平板自由振動之運動方程式及於聲場中之聲壓波動方程式，
    探討聲波遇平板時之聲壓變化及最後作用於平板上之聲壓函數；
    由聲壓轉變為外力，作用於平板上，
    計算出平板受此外力作用下之振動位移函數。
    此振動之平板，對空氣介質分子產生干擾，進而產生聲波，輻射出聲壓。
    本文中使用雷立積分式 (Rayleigh''s Integral) ，計算平板受外力振動，
    對空間所輻射出聲波之聲壓；探討平板振動的模態能量，於輻射聲場中，
    產生之聲壓的分佈情形。

    目錄 圖索引 表索引 第一章 緒論 1.1 前言 1.2 文獻回顧 1.3 本文摘要 第二章 運動方程式推導 2.1 平板自由振動方程式 2.2 聲場中聲波傳遞方程式 2.3 聲波遇平板之散射及輻射聲壓 2.4 聲壓轉變成外力作用之平板運動方程式及位移函數 第三章 平板受外力振動輻射之聲場 3.1 平板振動散射出之聲壓 3.2 平板振動散射聲場之指標 第四章 數值結果分析與討論 4.1 受聲壓外力振動平板之位移 4.2 受外力振動平板之輻射效率分析 4.3 點聲源 1500 Hz , 位於平板中心之上方 4.3.1 觀察者位置改變 4.3.2 點聲源位置改變 4.3.3 總結 4.4 點聲源 1000 Hz , 位於平板中心之上方 4.4.1觀察者位置改變 4.4.2 點聲源位置改變 4.4.3 總結 4.5 點聲源 1500 Hz , 位於非平板中心之上方 4.5.1 點聲源位於平板 (0.2,0.4) 之上方 4.5.2 點聲源位於平板 (0.0,0.4) 之上方 4.5.3 點聲源位於平板 (0.0,0.0) 之上方 4.5.4 總結 第五章 結論與建議 5.1 結論 5.2 建議 參考文獻

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