雷射直寫灰階光罩之製作｜國立中央大學博碩士論文系統

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研究生：	張子斌 Tz-Bin Chang
論文名稱：	雷射直寫灰階光罩之製作
指導教授：	張正陽 Jenq-Yang Chang
口試委員:
學位類別：	碩士 Master
系所名稱：	理學院 - 光電科學與工程學系 Department of Optics and Photonics
畢業學年度：	90
語文別：	中文
論文頁數：	52
中文關鍵詞：	灰階光罩
外文關鍵詞：	Gray Level Mask, LDW Glass
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繞射式光學元件為了要提昇效率，會將元件製作成多位階(Multiple Level)的形式。傳統的做法，會用多片不同的光罩，經過多次曝光、顯影與蝕刻的步驟，將元件製作出來。但這個過程過於繁複，容易造成製作上的困難與誤差。然而灰階光罩(Gray Level Mask)技術改進了製作方式。利用灰階光罩，只需一次的曝光、顯影與蝕刻步驟，即可做出高效率的繞射式光學元件。
本研究討論了雷射直寫玻片(Laser Direct Write Glass，LDW Glass)，這是一種利用雷射光束寫入灰階圖案的玻璃片，用來製作灰階光罩。
於本論文中，用波長為442nm與532nm的雷射當作光源，以顯微鏡物鏡(NA=0.1、0.25、0.4)聚焦寫入玻片。量測了玻片之穿透率譜線以及不同顯微鏡物鏡之聚焦效果，最小光點大小約2µm。測試了雷射寫入光強、時間、速度與玻片穿透率之間的關係。製作出光柵之灰階光罩，並成功製作出表面起伏連續變化的閃耀式光柵。其中週期分別為46µm與15µm，品質因子(Quality Factor)為0.9與0.83。並以光學顯微鏡，電子式顯微鏡，原子力顯微鏡來觀測元件，加以印證灰階光罩技術的成果。

誌  謝	I
論文摘要	II
目  錄	III
圖表索引	V
第一章 緒論	1
1-0前言	1
1-1灰階光罩的優點	1
1-2灰階光罩的種類	4
第二章 雷射直寫玻片	6
2-0 前言	6
2-1 雷射直寫玻片介紹	6
2-2 雷射直寫玻片之吸收譜線	8
2-3 顯微鏡物鏡與聚焦光點大小之關係	9
2-4 打點方式寫入玻片-TYPE1,TYPE2與GS11	12
2-4-1 實驗架設	12
2-4-2初期的實驗	13
2-5 劃線方式寫入玻片-TYPE1	17
2-5-1 劃線寫入實驗之架設	17
2-5-2 劃線寫入實驗	17
2-5-3 變速度劃線寫入實驗	20
2-5-4 繞射光柵之灰階光罩製作	21
2-6灰階光罩寫入機台簡介	24
2-6-1 機台之光路系統	24
2-6-2 機台之控制系統	25
2-7 劃線方式寫入玻片-GS11	26
2-7-1 劃線寫入玻片實驗之架設	26
2-7-2 劃線寫入實驗	27
2-7-3 閃耀式光柵之灰階光罩製作	30
第三章 繞射光柵	32
3-0 前言	32
3-1 閃耀式光柵簡介	32
3-2 光罩微影製程介紹	34
3-3 實驗結果	37
第四章 結論與未來展望	41
4-1 結論	41
4-2 未來展望	43
參考文獻	44

                                

1. Michael R.Wang and Heng Su, ”Laser direct-write gray-level mask and one-step etching for diffractive microlens fabrication”, Appl.Opt., Vol.37, No.32 (1998).
2. Stefan Sinzinger, Jurgen Jahns, ”Microoptics” Wiley-VCH, New York, 85-128 (1999).
3. M.B.Stern, M.Holz, S.S.Medeiros and R.E.Knowlden, ”Fabricating binary optics: process variables critical to optical efficiency”, J. Vac. Sci. Technol. B9, 3117 (1991).
4. T.J Sulesji and D.C.O’Shea, ”Gray-Scale mask for diffractive-optics fabrication: I.Commercial slide imagers” , Appl.Opt. 34,627 (1995).
5. Adersson, H.et al., ”Single Photomask, Multilevel Kinoforns in Quartz and Photoresist: manufacture and evaluation”, Appl. Opt., 29(28), (1991), p.4259-4267.
6. C.Wu. ”High energy beam colored glasses exhibiting insensitivity to actinic radiation”, US Patents No.4567104, January 28, 1986 (field on June 24, 1983).
7. Canyon Materials Inc. Product information No.95-08.LDW-glass photomask blanks.
8. V. Korolkov, A. Malyshev, A. Poleshuk, et al., ”Fabrication of gray-scale masks and diffractive optical elements with LDW-glass”, SPIE Vol.4440 (2001).
9. M.C.Hutley ”Diffraction Grating”, Academic Press (1982).
10. Ridgw, Nancy, ”HEBS-Glass Photomask Blanks”, User’s Manual (Canyon Materials Inc.), CMI Product Information no.96-01, p.1-15.

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